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“当前的行业现状是，193纳米液浸式光刻机系统是最为成熟的技术，在精确度以及成本上做到了一个近乎完美的平衡，短时间内很难被取代，但终究也是要被取代的，就是极紫外光刻机技术。”
安静的会议大厅里，罗晟有条不紊的说道：“这样做的风险是很高，但是不可否认的是半导体业的发展也的的确确到了一个新的转折点，摩尔定律正在面临巨大的挑战，没有人能够确定去年总产值3000亿美元的半导体产业将如何引导未来5年或10年内的发展。”
“也无人能够知晓‘后摩尔定律’时代的半导体行业未来会是什么样子。”说到这里罗晟心中补充了一句“除了我”，停顿了片刻继续说道：
“利润的下降也可能是无法避免的，但是如果摩尔定律能够有效的避免半导体业营业额的下降，即便只有15%，其现金流也仍然是整个美国游戏产业营业额的两倍。”
朱昱下意识的点点头，在罗晟停顿的时候发言道：“光刻、蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素，但是能实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商就是这么做的，把晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减少波长，一直到光谱上的紫外端……”
罗晟继续说道：“摩尔定律的终点已经被大家预见到了，半导体行业也一直都在寻找方法来保持技术革新和进步，全球的领先芯片制造厂商们也在努力改进技术，即：将晶片从光刻机中加工取出后再放入其中，并在原来的位置精准的印刷出下一层图像，EUV是较为不同的一个。”
“我坚信这个技术可以实现，是未来的趋势，并且该技术会成为芯片制造商们最划算的选择。所以我的想法是接下来不惜成本合力做出一个EUV光刻机样机，争取在2015年左右实现这个目标，使其他研究者们可以测试这种方法。”
不一会儿，胜利精密的掌门人高总提出了不同的看法，他说道：“但是罗总，据我所知EUV技术是非常困难的。在使用波长近乎为X光的射线去蚀刻的时候，物理学知识并不能为工程师们帮上多少忙。”
与会的其它人也不由得点点头，极紫外光刻技术在上个世纪90年代后期就已经被提出来了，如今过去了十多年，行业大拿ASML公司也毫无进展，其难度可想而知。
末了，众人不由得看向了罗晟，诧异的发现善于创造奇迹的年轻世界首富却是一脸轻松，这不禁让大家好奇了。
罗晟调出了一组数学模型，不用他示意众人已经纷纷看向了大屏幕，而罗晟有条不紊的说道：
“高总说的不无道理，所以我最终选择了13.5纳米波长射线，这种光可以轻易地被很多材料吸收，即使我们呼吸的空气也是完全的黑色，因为它也吸收了最后一点射线，我很早就意识到了EUV光刻机只能在真空下运行，晶圆则通过一个气闸进出光刻机。”
罗晟补充道：“之后接踵而来的就是让射线弯曲的问题了，EUV也能被玻璃吸收，所以在设备中改变其走向，需要使用反射镜来代替透镜，而且还不能是普通的反射镜，普通打磨镜片的反射率不够，所以需要一种多层镜面，可以将很多小的反射集中成一个单一而强大的反射，也就是所谓的布拉格反射器。”
朱昱等业内大咖们在听了罗晟这寥寥几句的描述，个个都感觉要给跪了的节奏，突然的一瞬间意识他真的可能在极紫外光刻技术领域再次创造出不... -->>
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